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Anisotropic plasma dry etching
Bite first
Deep etch offset
Deep-etch
Deep-etch offset
Dry etching
Dry etching process
Dry plasma etching
Etch-offset
Etching first
Flat etch
Flat etching
Intaglio offset
Offset deep printing
Plasma dry etching
Plasma etching
Polish tools used for etching
Pre-etching
Prepare etching workpieces
Prepare workpieces for etching
Prepare workpieces to etch

Übersetzung für "dry etching " (Englisch → Französisch) :

TERMINOLOGIE
dry etching
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
désinfection à sec
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]
plasma dry etching
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
méthode sèche anisotrophique
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]
dry etching process
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
procédé de gravure à sec
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) [HTML] [2018-01-01]
dry etching
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
gravure à sec [ gravure sèche ]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) [HTML] [2018-01-01]
dry etching
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
gravure sèche
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]
plasma etching [ dry plasma etching | dry etching ]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
gravure au plasma [ décapage au plasma ]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) [HTML] [2018-01-01]
anisotropic plasma dry etching
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
méthode sèche anisotropique par plasma
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]
polish tools used for etching | prepare workpieces to etch | prepare etching workpieces | prepare workpieces for etching
https://ec.europa.eu/esco/port (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
préparer des pièces à graver à l'eau-forte
https://ec.europa.eu/esco/port (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
https://ec.europa.eu/esco/port (...) [HTML] [2017-12-31]
deep-etch offset | deep etch offset | etch-offset | offset deep printing | deep-etch | intaglio offset
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
offset en creux | offset creux | offset grand creux | procédé offset-creux
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]
flat etch | flat etching | bite first | etching first | pre-etching
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
morsure préliminaire | première morsure
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
(6) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes for dry-etching patterns on semiconductor materials of subheading 8486.20 from any other good of subheading 8486.20 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:
http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-26]
(6) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma pour la gravure à sec du tracé sur les matières semi-conductrices de la sous-position 8486.20 de tout autre produit de la sous-position 8486.20 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :
http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-26]
http://laws-lois.justice.gc.ca (...) [HTML] [2014-09-26]
c". Stored programme controlled" anisotropic plasma dry etching equipment, as follows:
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]
c. équipements "à commande par programme enregistré" pour l'élimination par des méthodes sèches anisotropiques par plasma, comme suit:
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]
After etching, the specimen is washed in water, immersed for about 30 seconds in 50 % dilute nitric acid, washed again in water and dried with compressed air.
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [1983-12-31]
Après l'attaque, l'échantillon est lavé à l'eau, trempé pendant 30 secondes environ dans de l'acide nitrique dilué à demi, rincé à nouveau à l'eau séché à l'air comprimé.
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [1983-12-31]
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [1983-12-31]
After etching, the specimens are very carefully washed with de-ionized water and dried with greasefree compressed air.
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [1983-12-31]
Après l'attaque, les échantillons sont rincés minutieusement avec de l'eau déionisée et séchés avec de l'air comprimé exempt de graisse.
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [1983-12-31]
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [1983-12-31]


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