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Übersetzung für "plasma-assisted depositing and etching " (Englisch → Französisch) :

TERMINOLOGIE

plasma depositing and etching | plasma-assisted depositing and etching

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

dépôt et gravure activés par plasma

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma | dépôt en phase vapeur assisté par plasma | dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma | dépôt en phase vapeur activé par plasma

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]

reactive ion deposition and etching | RIDE,reactive ion processes are an extension of sputtering processes in that the inert gas used for generating the plasma is replaced by a gas that reacts with the material to be deposited or etched [Abbr.]

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

dépôt et gravure ionique réactifs

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]

plasma assisted chemical vapour deposition reactor

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

réacteur de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]

IN-CONTEXT TRANSLATIONS

CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) comprend les procédés suivants: dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (CNTD), dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

The use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

L'utilisation de faisceaux d'ions ou d'électrons ou de plasma, pour activer ou assister le dépôt du revêtement, est également une variante courante.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

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Date index: 2021-02-24