5.2.1. Preparation of the basic thin layer chromatography plates. Immerse the silica gel plates (point 4.6) about 4 cm in the 0,2 N ethanolic potassium hydroxide solution (point 4.5) for 10 seconds, then allow to dry in a fume cupboard for two hours and finally place in an oven at 100 °C for one hour.
5.2.1. Herstellung der basischen Dünnschicht-Chromatographie-Platten Die Kieselgelplatten (Nummer 4.6) vollständig ca. 10 Sekunden lang in eine 0,2-N-ethanolische Alkalihydroxidlösung (Nummer 4.5) eintauchen, dann unter einem Abzug 2 Stunden trocknen lassen, anschließend noch 1 Stunde bei 100 °C im Trockenschrank.