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Analyse etched work
Copper soup
EPD etch
Etch
Etch primer
Etch-pit-density etch
Etched skin
Etching
Handle chemicals for etching
Handle etching chemical products
Handle etching chemicals
Inspect etched work
Inspect etchings
Inspect work of etching
Number 1 etch
Number one etch
Polish tools used for etching
Prepare etching workpieces
Prepare workpieces for etching
Prepare workpieces to etch
Salier etch
Silicon EPD etch
Silicon etch-pit-density etch
Use chemical agents for etching

Übersetzung für "Etching " (Englisch → Deutsch) :

TERMINOLOGIE


handle chemicals for etching | use chemical agents for etching | handle etching chemical products | handle etching chemicals

mit ätzenden Chemikalien umgehen


analyse etched work | inspect work of etching | inspect etched work | inspect etchings

Radierungen überprüfen


polish tools used for etching | prepare workpieces to etch | prepare etching workpieces | prepare workpieces for etching

Werkstücke zum Ätzen vorbereiten


copper soup | number 1 etch | number one etch | Salier etch

Salier-Ätzlösung


silicon EPD etch | silicon etch-pit-density etch

Silizium-EPD-Ätzung


EPD etch | etch-pit-density etch

Ätzung zur Ermittlung der Ätzgrubendichte | EPD-Ätzung






IN-CONTEXT TRANSLATIONS
(e) ‘For etching/cleaning in semiconductor industry only’: for fluorinated greenhouse gas quantities which are to be used for etching and cleaning purposes in semiconductor industry.

„Nur zum Ätzen/zur Reinigung in der Halbleiterindustrie“ bei Mengen fluorierter Treibhausgase, die zum Ätzen und zur Reinigung in der Halbleiterindustrie bestimmt sind.


hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.

teilfluorierte Kohlenwasserstoffe, die von einem Hersteller oder Einführer direkt an ein Unternehmen geliefert werden, das sie zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie verwendet.


10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.

(10) Fluorierte Treibhausgase, die zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie in Verkehr gebracht werden, werden mit einer Kennzeichnung versehen, auf der angegeben ist, dass der Inhalt des Behälters nur zu diesem Zweck verwendet werden darf.


the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind.


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in photo-lithography processes for semiconductors or in etching processes for compound semiconductors.

in fotolithografischen Verfahren für Halbleiter oder in Ätzverfahren für Verbindungshalbleiter.


(e) ‘For etching/cleaning in semiconductor industry only’: for fluorinated greenhouse gas quantities which are to be used for etching and cleaning purposes in semiconductor industry;

„Nur zum Ätzen/zur Reinigung in der Halbleiterindustrie“ bei Mengen fluorierter Treibhausgase, die zum Ätzen und zur Reinigung in der Halbleiterindustrie bestimmt sind;


the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind;


hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;

teilfluorierte Kohlenwasserstoffe, die von einem Hersteller oder Einführer direkt an ein Unternehmen geliefert werden, das sie zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie verwendet;


New marking technology using a carbon dioxide laser for etching information on the surface of fresh fruit was developed.

Entwickelt wurden neue Druckverfahren, bei denen unter Einsatz eines CO2-Lasers Informationen auf die Oberfläche von frischem Obst geätzt werden.


(b) the fibre composition of etch-printed textiles shall be given for the product as a whole and may be indicated by stating, separately, the composition of the base fabric and that of the etched parts. These components must be mentioned by name;

b) Bei ausgebrannten Textilerzeugnissen wird die Faserzusammensetzung für das Gesamterzeugnis angegeben; sie kann durch getrennte Nennung der Zusammensetzung des Grundmaterials und der der Ausbrennung unterworfenen Teile angegeben werden, wobei diese beiden Bestandteile ausdrücklich zu nennen sind.




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'Etching' ->

Date index: 2021-01-05
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