Übersetzung für "Handle chemicals for etching " (Englisch → Deutsch) :

TERMINOLOGIE

handle chemicals for etching | use chemical agents for etching | handle etching chemical products | handle etching chemicals

https://ec.europa.eu/esco/port (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

mit ätzenden Chemikalien umgehen

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https://ec.europa.eu/esco/port (...) [HTML] [2017-12-31]

ensure the safekeeping of hazardous chemicals and cleaning materials | handle cleaning chemical agents | handle chemical agents when cleaning | handle chemical cleaning agents

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chemische Reinigungsmittel nutzen | mit chemischen Reinigern arbeiten | chemische Reiniger nutzen | mit chemischen Reinigungsmitteln umgehen

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administer chemicals for clean in place | employ chemicals for clean in place | handle chemicals for clean in place | use chemicals for clean in place

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Chemikalien für die CIP-Reinigung handhaben | Chemikalien für cleaning-in-place handhaben | Chemikalien für die Reinigung in geschlossenen Systemen handhaben

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liquid wastes and sludges from metal treatment of coating of metals(eg.galvanic processes,zinc coating processes,pickling processes,etching,phosphatizing,alkaline degreasing) | wastes from chemical surface treatment and coatingof metals and other materials (for example galvanic processes, zinc coating processes, pickling processes, etching, phosphating, alkaline degreasing, anodising)

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

flüssige Abfälle und Schlämme aus der Metallbearbeitung und-beschichtung(z.B.Galvanik,Verzinkung,Beizen,Ätzen,Phosphatieren und alkalisches Entfetten)

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chemical contouring | chemical milling | contour etching

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chemische Bearbeitung | chemisches Fräsen

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chemical etching

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chemisches Ätzen

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IN-CONTEXT TRANSLATIONS

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

(10) Fluorierte Treibhausgase, die zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie in Verkehr gebracht werden, werden mit einer Kennzeichnung versehen, auf der angegeben ist, dass der Inhalt des Behälters nur zu diesem Zweck verwendet werden darf.

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https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2017-12-31]

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

teilfluorierte Kohlenwasserstoffe, die von einem Hersteller oder Einführer direkt an ein Unternehmen geliefert werden, das sie zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie verwendet.

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https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2017-12-31]

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind.

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https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2017-12-31]

the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufactur ...[+++]

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

die Menge jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in die Union eingeführt hat, unter Angabe der Hauptkategorien der Anwendungen, für die die Stoffe verwendet werden, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Zerstörung, für Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, zur Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind.

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2017-12-31]

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the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufactur ...[+++]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

die Menge jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in die Union eingeführt hat, unter Angabe der Hauptkategorien der Anwendungen, für die die Stoffe verwendet werden, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Zerstörung, für Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, zur Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind ;

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2014-03-11]

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind ;

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2014-03-11]

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

teilfluorierte Kohlenwasserstoffe, die von einem Hersteller oder Einführer direkt an ein Unternehmen geliefert werden, das sie zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie verwendet;

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2014-03-11]

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

10. Fluorierte Treibhausgase, die zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie in Verkehr gebracht werden, werden mit einer Kennzeichnung versehen, auf der angegeben ist, dass der Inhalt des Behälters nur zu diesem Zweck verwendet werden darf.

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2014-03-11]

wastes from chemical surface treatment and coating of metals and other materials (for example galvanic processes, zinc coating processes, pickling processes, etching, phosphating, alkaline degreasing, anodising)

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2006-06-13]

Abfälle aus der chemischen Oberflächenbearbeitung und Beschichtung von Metallen und anderen Werkstoffen (z. B. Galvanik, Verzinkung, Beizen, Ätzen, Phosphatieren, alkalisches Entfetten und Anodisierung)

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2006-06-13]

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2006-06-13]

wastes from chemical surface treatment and coating of metals and other materials (eg. galvanic processes, zinc coating processes, pickling processes, etching, phosphatiing, alkaline degreasing, anodising)

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2003-11-18]

Abfälle aus der chemischen Oberflächenbearbeitung und Beschichtung von Metallen und anderen Werkstoffen (z. B. Galvanik, Verzinkung, Beizen, Ätzen, Phosphatieren, alkalisches Entfetten und Anodisierung)

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2003-11-18]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2003-11-18]

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Date index: 2023-01-18