Laermer's method overcame the problem by using a fluorocarbon-based plasma to deposit an etch-resistant layer before taking a subsequent etch step.
Das Verfahren von Lärmer löste das Problem durch den Einsatz eines Fluorkohlenstoff-basierten Plasmas zum Abscheiden einer ätzresistenten Schutzschicht vor Durchführung einer nachfolgenden Ätzstufe.