dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma | dépôt en phase vapeur assisté par plasma | dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma | dépôt en phase vapeur activé par plasma

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]

reactive ion deposition and etching | RIDE,reactive ion processes are an extension of sputtering processes in that the inert gas used for generating the plasma is replaced by a gas that reacts with the material to be deposited or etched [Abbr.]

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

dépôt et gravure ionique réactifs

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

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cold plasma coating treatment and deposition technology

http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

technologie de traitement et de déposition de revêtement par plasma froid

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http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]

écran à plasma | écran plasma | écran au plasma

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bank deposit [ demand deposit | deposit account | fixed deposit | sight deposit | time deposit ]

http://eurovoc.europa.eu/drupa (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

dépôt bancaire [ avoirs bancaires | compte bancaire | dépôt à terme | dépôt à vue ]

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blood plasma fractionation | plasma fractionation | fractionation of blood plasma | fractionation of plasma | human blood plasma fractionation

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fractionnement plasmatique | fractionnement du plasma | fractionnement de plasma | fractionnement du plasma humain

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IN-CONTEXT TRANSLATIONS

CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.

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Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) comprend les procédés suivants: dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (CNTD), dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

5. Ion Plating is a special modification of a general TE-PVD process in which a plasma or an ion source is used to ionise the species to be deposited, and a negative bias is applied to the substrate in order to facilitate the extraction of the species from the plasma.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

5. le dépôt ionique est une modification spéciale d'une technique générale de dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation thermique (TE-PVD) par laquelle une source d'ions ou un plasma est utilisé pour ioniser le matériau à déposer, une polarisation négative étant appliquée au substrat afin de faciliter l'extraction, hors du plasma, du matériau.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2002-12-31]

The use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2002-12-31]

L'utilisation de faisceaux d'ions ou d'électrons ou de plasma, pour activer ou assister le dépôt du revêtement, est également une variante courante.

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Andere haben gesucht : bank deposit blood plasma fractionation demand deposit deposit account fixed deposit fractionation of blood plasma fractionation of plasma gas panel gas-discharge display gas-plasma display gas-plasma screen human blood plasma fractionation plasma depositing and etching plasma deposition plasma display plasma display panel plasma fractionation plasma panel plasma screen plasma-activated cvd plasma-activated chemical vapor deposition plasma-assisted cvd plasma-assisted chemical vapor deposition plasma-assisted depositing and etching plasma-enhanced cvd plasma-enhanced chemical vapor deposition rapid solidification plasma deposition reactive ion deposition and etching sight deposit time deposit Plasma deposition

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Date index: 2022-11-11