– Appareils photographiques des types utilisés pour la préparation des cli
chés ou cylindres d’impression qui sont des masqueurs conçus po
ur la production de masques et réticules à partir de substrats recouverts d’une résine photosensible; leurs parties et accessoires | Fabrication: à partir de matières de toute position, à l’exclusion des matières de la même position que le produit,dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 40 % du prix départ usine du produit, etdans laquelle la valeur de toutes les
...[+++] matières non originaires utilisées ne doit pas excéder la valeur de toutes les matières originaires utilisées | Fabrication dans laquelle la valeur de toutes les matières utilisées ne doit pas excéder 30 % du prix départ usine du produit |– Fotoapparate von der zum Herstellen von Klischees oder Druckformzylindern verwendeten Art als Pattern-Generatoren zum Herst
ellen von Masken und Reticles aus mit Fotolack beschichteten Substraten; Teile davon und Zubehör | Herstellen aus Vormaterialien jeder Position, ausgenommen aus Vormaterialien der Position der Ware,bei dem der Wert aller verwendeten Vormaterialien 40 v. H. des Ab-Werk-Preises der Ware nicht überschreitet undbei dem der Wert aller verwendeten Vormaterialien ohne Ursprungseigenschaft den Wert aller verwendeten Vormaterialien mit Ursprungseigenschaft nicht überschreitet | Herstellen, bei dem der Wert aller verwendete
...[+++]n Vormaterialien 30 v. H. des Ab-Werk-Preises der Ware nicht überschreitet |
