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CMOS
Circuit client
Circuit en échelle à transistors MOS
Circuit intégré
Circuit intégré client
Circuit intégré spécifique
Circuit intégré spécifique à un client
Circuit intégré sur mesure
Circuit intégré à application spécifique
Circuit intégré à la demande
Circuit intégré à transistors MOS
Circuit intégré à transistors MOS et bipolaires
Circuit spécifique
Composant de mémoire
Composant électronique
Intégration à grande échelle syn. LSI
MOS complémentaire
Microprocesseur
Ou MSI
Ou circuits à grande échelle
Ou circuits à haut niveau d'intégration
Puce électronique
Semi-conducteur
Transistor
Tube électronique

Übersetzung für "circuit intégré à transistors mos " (Französisch → Deutsch) :

TERMINOLOGIE
circuit intégré à transistors MOS | MOS complémentaire | CMOS [Abbr.]

ergänzende Metalloxidhalbleiter


circuit intégré à transistors MOS et bipolaires

hybride integrierte Schaltung mit MOS und bipolaren Transistoren


circuit intégré à application spécifique | circuit intégré spécifique | circuit spécifique

Anwendungsspezifischer integrierter Schaltkreis | ASIC


circuit intégré sur mesure | circuit intégré à la demande

Vollkundenschaltung


circuit en échelle à transistors MOS

Kettenanordnung von MOS-Transistoren


composant électronique [ circuit intégré | composant de mémoire | microprocesseur | puce électronique | semi-conducteur | transistor | tube électronique ]

elektronisches Bauteil [ Elektronenröhre | elektronische Platine | elektronisches Bauelement | Halbleiter | integrierter Schaltkreis | Mikrochip | Mikroprozessor | Speicherbaustein | Transistor ]


intégration à grande échelle syn.: LSI | ou: circuits à haut niveau d'intégration | ou: circuits à grande échelle

LSI


circuit intégré spécifique à un client | circuit client | circuit intégré client

Kundenspezifischer integrierter Schaltkreis


intégration à moyenne échelle (abr.: MSI) syn.: circuits à moyenne échelle | ou: MSI

mittlere Integration (Abk.: MSI)
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
[16] Cette observation a été formulée en 1965 par Gordon Moore, cofondateur de l'entreprise Intel, à propos du rythme de progression du nombre de transistors sur un circuit intégré.

[16] Gordon Moore, einer der Mitbegründer von Intel, traf diese Feststellung im Jahre 1965 mit Blick auf die Geschwindigkeit, mit der sich die Dichte von Transistoren in integrierten Schaltkreisen erhöhte.


Le nombre de transistors pouvant être placés sur un circuit intégré devrait aller en augmentant de façon exponentielle et doubler tous les deux ans environ (suivant la loi dite de Moore).

Die Zahl der Transistoren, die auf einen integrierten Schaltkreis passen, wird voraussichtlich exponentiell steigen und sich etwa alle zwei Jahre verdoppeln (sogenanntes Mooresches Gesetz.) Dennoch werden die physischen Grenzen der derzeitigen Maskentechnik bald erreicht sein.


[16] Cette observation a été formulée en 1965 par Gordon Moore, cofondateur de l'entreprise Intel, à propos du rythme de progression du nombre de transistors sur un circuit intégré.

[16] Gordon Moore, einer der Mitbegründer von Intel, traf diese Feststellung im Jahre 1965 mit Blick auf die Geschwindigkeit, mit der sich die Dichte von Transistoren in integrierten Schaltkreisen erhöhte.


b) les circuits intégrés hybrides réunissant, de façon pratiquement indissociable, sur un même substrat isolant (verre, céramique, etc.) des éléments passifs (résistances, capacités, interconnexions, etc.), obtenus par la technologie des circuits à couche mince ou épaisse et des éléments actifs (diodes, transistors, circuits intégrés monolithiques, etc.) obtenus par la technologie des semi-conducteurs.

b) hybride integrierte Schaltungen, bei denen passive Bauelemente (Widerstände, Kondensatoren, Leiterbahnen usw.), die in der Dünnschicht-oder Dickschichttechnik hergestellt worden sind, und aktive Bauelemente (Dioden, Transistoren, monolithische integrierte Schaltungen usw.), die in der Halbleitertechnik hergestellt worden sind, auf praktisch untrennbare Weise auf dem gleichen isolierenden Träger (z.B. Glas oder Keramik) vereinigt sind.


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a) les circuits intégrés monolithiques dans lesquels les éléments du circuit (diodes, transistors, résistances, capacités, interconnexions, etc.) sont créés dans la masse (essentiellement) et à la surface d'un matériau semi-conducteur (silicium dopé, par exemple), formant un tout indissociable;

a) monolithische integrierte Schaltungen, bei denen die Schaltungselemente (Dioden, Transistoren, Widerstände, Kondensatoren, Leiterbahnen usw.) hauptsächlich im halbleitenden Material sowie auf der Oberfläche halbleitenden Materials (z.B. dotiertem Silicium) hergestellt worden sind und ein untrennbares Ganzes bilden;


b) les circuits intégrés hybrides réunissant, de façon pratiquement indissociable, sur un même substrat isolant (verre, céramique, etc.) des éléments passifs (résistances, capacités, interconnexions, etc.), obtenus par la technologie des circuits à couche mince ou épaisse et des éléments actifs (diodes, transistors, circuits intégrés monolithiques, etc.) obtenus par la technologie des semi-conducteurs.

b) hybride integrierte Schaltungen, bei denen passive Bauelemente (Widerstände, Kondensatoren, Leiterbahnen, usw.), die in der Dünnschicht- oder Dickschichttechnik hergestellt worden sind, und aktive Bauelemente (Dioden, Transistoren, monolithische integrierte Schaltungen usw.), die in der Halbleitertechnik hergestellt worden sind, auf praktisch untrennbare Weise auf dem gleichen isolierenden Träger (z.B. Glas oder Keramik) vereinigt sind.


B) «Circuits intégrés et micro-assemblages électroniques»: a) les circuits intégrés monolithiques dans lesquels les éléments du circuit (diodes, transistors, résistances, capacités, interconnexions, etc.) sont créés dans la masse (essentiellement) et à la surface d'un matériau semi-conducteur (silicium dopé, par exemple), formant un tout indissociable ;

B". Elektronische integrierte Schaltungen und zusammengesetzte elektronische Mikroschaltungen (Mikrobausteine)": a) monolithische integrierte Schaltungen, bei denen die Schaltungselemente (Dioden, Transistoren, Widerstände, Kondensatoren, Leiterbahnen, usw.) hauptsächlich im halbleitenden Material sowie auf der Oberfläche halbleitenden Materials (z.B. dotiertem Silicium) hergestellt worden sind und ein untrennbares Ganzes bilden;




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circuit intégré à transistors mos ->

Date index: 2022-01-04
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